В данном типе оборудования используется сфокусированный лазерный луч ультрафиолетового (УФ) диапазона для экспонирования тонкого фоточувствительного слоя (фоторезиста) на поверхности образца. Разрешение прибора составляет 0,6-0,7 мкм. Задавая траекторию движения лазерного луча, а также перемещая столик с образцом, в слое фоторезиста можно создавать структуры (паттерны) заданной геометрии. Описанный метод обладает субмикронным разрешением и позволяет быстро переносить дизайн экспонирования в фоторезист без использования специализированных фотомасок.
Представленный тип оборудования особенно востребован при создании микро- и наноструктур для проведения фундаментальных исследований, быстрого прототипирования образцов, проведения R&D разработок и создания мелкой серии структур. Область применения обширна и включает элементы оптоэлектроники, фотонных интегральных схем, элементов микроэлектроники, создания гибких электродов и микрофлюидных чипов. Объединенным коллективом научных сотрудников и инженеров создан первый рабочий прототип оборудования.
«Проектирование и изготовление основных узлов установки ведется специалистами университета с применением отечественной компонентной базы. Характеристики разрабатываемого решения соответствуют ведущим иностранным аналогам, при этом цена будет крайне конкурентной», — прокомментировал проректор по науке Академического университета Иван Мухин.
Литограф был представлен на полях международной специализированной выставки «Фотоника» на стенде индустриального партнера университета ООО «Лазерный центр» и получил много положительных откликов от участников мероприятия.
